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How to Build a New Diffusion Model with Silvaco Victory TCAD Solution

配信開始日:

本ウェビナーでは、Victory Processでのシミュレーションに利用できるカスタム拡散モデルの作成方法をご紹介します。

  • アニーリング・モデル・ライブラリの基礎
  • ローカル・コピーによるカスタム用モデル・ファイルの作成
  • 簡単な拡散モデルの実装
  • モデルのコンパイルとシミュレーションでの利用

プレゼンタ:

Vito Simonka博士は、University of Mariborで物理学の学士号(2012年)と修士号(2015年)を取得し、TU WienのInstitute for Microelectronicsで博士号(2018年)を取得しました。Silvaco EuropeのTCAD開発エンジニアとして最先端の半導体プロセス・シミュレーションに従事しています。拡散モデル、材料データベース、注入モジュール、酸化およびシリサイド化の機能で多大な貢献をしています。


対象:

半導体プロセス・シミュレーション、特に半導体の拡散に興味のあるデバイス・エンジニア、プロセス・エンジニア、マネージャ。